快速退火爐是采用電磁感應(yīng)加熱技術(shù)，通過大功率高頻交流電源使被加熱工件在較短的時間內(nèi)達到所需溫度的一種新型熱源。主要用于快速熱處理、熱氧化處理、高溫退火的設(shè)備。

　　它具有升溫快、節(jié)能、無污染等特點。

　　該設(shè)備廣泛用于各種金屬材料的淬火、退火等熱處理工藝中，

　　如：軸承鋼球化退火熱處理；不銹鋼制品的退火熱處理；齒輪類工件的表面淬火硬化；彈簧的熱變形加工等等。

　　快速退火爐（芯片熱處理設(shè)備）廣泛應(yīng)用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導體和功率器件等多種芯片產(chǎn)品的生產(chǎn)，和歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物生長、消除應(yīng)力和致密化等工藝當中，通過快速熱處理以改善晶體結(jié)構(gòu)和光電性能，技術(shù)指標高、工藝復雜、專用性強。

　　快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成。

　　真空腔室：真空腔室是快速退火爐的工作空間，晶圓在這里進行快速熱處理。

　　加熱室：加熱室以多個紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。

　　進氣系統(tǒng)：真空腔室尾部有進氣孔，精確控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。

　　真空系統(tǒng)：在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時避免氣體倒灌污染腔室內(nèi)的被處理工件。

　　溫度控制系統(tǒng)：溫度控制系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器、電力調(diào)整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。

　　氣冷系統(tǒng)：真空腔室的冷卻是通過進氣系統(tǒng)向腔室內(nèi)充入惰性氣體，來加速冷卻被熱處理的工件，滿足工藝使用要求。

　　水冷系統(tǒng)：水冷系統(tǒng)主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。